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EVG獲得用于晶圓級光學(xué)微透鏡制造的光刻和計量系統(tǒng)的訂單

更新時間:2022-03-16  |  點(diǎn)擊率:3039
  1. 新聞簡介
 
  岱美儀器供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)是面向MEMS,納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的領(lǐng)仙供應(yīng)商,金天宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的權(quán)面組合產(chǎn)品組合的多個訂單,這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿足對晶圓的新興需求,水平光學(xué)(WLO)和3D感應(yīng)。市場領(lǐng)仙的產(chǎn)品組合包括EVG®770自動UV-納米壓印光刻(UV-NIL)步進(jìn)器,用于步進(jìn)重復(fù)式主圖章制造,用于晶圓級透鏡成型和堆疊的IQAligner®UV壓印系統(tǒng)以及EVG ®40NT自動測量系統(tǒng),用于對準(zhǔn)驗(yàn)證。EVG的WLO解決方案由該公司的NILPhotonics®能力中心提供支持。
 
  2. 產(chǎn)品特色
 
  使用全新的壓印光刻技術(shù)和鍵合對準(zhǔn)技術(shù)在晶圓級制造微透鏡,衍射光學(xué)元件和其他光學(xué)組件可帶來諸多好處。這些措施包括通過高度并行的制造工藝降低擁有成本,以及通過堆疊使蕞終器件的外形尺寸更小。EVG是納米壓印光刻和微成型領(lǐng)域的翹楚和市場向?qū)?,擁有大的工具安裝基礎(chǔ)。
 
  EV Group企業(yè)技術(shù)總監(jiān)Thomas Glinsner博士證實(shí):“我們看到支持晶圓級光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加。” “僅從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個用于透鏡成型和堆疊以及計量的系統(tǒng),以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。此類訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場嶺導(dǎo)者的地位,同時創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機(jī)會。”
 
  業(yè)界領(lǐng)仙的設(shè)備制造商蕞近宣布了擴(kuò)大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計劃,以幫助解決客戶日益激進(jìn)的上市時間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機(jī)中正在設(shè)計十多種傳感器。其中包括3D感測相機(jī),指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測距儀和生物傳感器??傮w而言,光纖集線器預(yù)計將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復(fù)合年增長率超過11%。
 
圖1  晶圓級微鏡頭模組
 
  對EVG WLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對用于移動消費(fèi)電子產(chǎn)品的新型光學(xué)傳感解決方案和設(shè)備的需求驅(qū)動的。關(guān)鍵示例包括3D感測(對于獲得更真實(shí)的虛擬和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(VR / AR)用戶體驗(yàn)至關(guān)重要),生物特征感測(對于安全應(yīng)用而言越來越關(guān)鍵),環(huán)境感測,紅外(IR)感測和相機(jī)陣列。其他應(yīng)用包括智能手機(jī)中用于高級深度感應(yīng)以改善相機(jī)自動對焦性能的其他光學(xué)傳感器以及微型顯示器。
 
  EV Group企業(yè)技術(shù)開發(fā)兼IP總監(jiān)Markus Wimplinger表示:“毫無疑問,晶圓級光學(xué)和3D傳感技術(shù)正在出現(xiàn)高度可持續(xù)的趨勢。“由于在我們公司總部的NILPhotonics能力中心支持的大量正在進(jìn)行的客戶項(xiàng)目,我們預(yù)計在不久的將來將更廣范地使用該技術(shù)。”
 
  3. 產(chǎn)品型號
 
  EVG的WLO設(shè)備型號包括:
 
  EVG770自動UV-NIL納米壓印步進(jìn)機(jī),用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,里面*裝有微透鏡模具,每個模具都采用分步重復(fù)的方法從一個透鏡模板中復(fù)制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,具有無人能比的鏡片位置精度和膏端鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復(fù)性晶圓級相機(jī)模塊。
 
EVG770 納米壓印機(jī)
圖2 EVG770 納米壓印機(jī)
 
  IQ Aligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),用于UV微透鏡成型。軟UV壓印光刻技術(shù)是用于制造聚合物微透鏡(WLO系統(tǒng)的關(guān)鍵要素)的高度并行技術(shù)。EVG從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其應(yīng)用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。
 
IQ Aligner NT納米壓印機(jī)
圖3  IQ Aligner NT納米壓印機(jī)
 
  EVG40 NT自動測量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,計量對于驗(yàn)證是否符合嚴(yán)格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關(guān)重要。在WLO制造中,EVG的度量衡解決方案可用于關(guān)鍵尺寸(CD)測量和透鏡疊層對準(zhǔn)驗(yàn)證,以及許多其他應(yīng)用。
 
EVG40 NT計量設(shè)備
圖4  EVG40 NT計量設(shè)備
 
  *編者注:該市場數(shù)據(jù)的來源是YoleDéveloppement在2016年6月發(fā)布的“ 2016年手機(jī)和平板電腦傳感器”報告。
 
  4. 關(guān)于EV集團(tuán)(EVG)
 
  EV Group(EVG)是岱美儀器的供應(yīng)商,是制造半導(dǎo)體,微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS),化合物半導(dǎo)體,功率器件和納米技術(shù)器件的設(shè)備和工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合機(jī),薄晶圓處理,光刻/納米壓印光刻(NIL)和計量設(shè)備,以及光刻膠涂布機(jī),清潔劑和檢查系統(tǒng)。EV Group成立于1980年,為精致的客戶和合作伙伴提供服務(wù)并提供支持。
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